要想完成抛光加工工作，我们必须要进行基础配置，除了准备抛光机外，还应该准备抛光垫。抛光垫分类多，材质不同，各有所长。它们能分别应用在陶瓷、硅片等物质的抛光工作中。

在CMP系统中，抛光垫的作用非常强大。首先它能贮存抛光液，其次能起到运输作用。如果想顺利保证研磨抛光的质量，必须要注重抛光垫的品质，它的参数、结构都会影响到抛光效果。抛光垫的作用显而易见，它不仅能提高光亮度，还能让表面更光洁，从而保证了工件的美观。如果大家使用的是平面抛光机，抛光垫就会起到完善、巩固的效果。

在抛光垫选择过程中，我们要重视以下几点：第一是看材质，着重看一下耐磨的程度；第二是看表面，看看抛光垫是否有韧性，也要看其粗糙的程度。第三是注重配套性，这是从配置角度来说的，抛光垫不能混搭，它必须要与运送的液体配合起来，也应该符合磨盘的型号。

总之，如果选不好抛光垫，就会造成表面划伤，这样就无法保证抛光性能了，也就失去了抛光的意义。因此我们在跟生产厂家洽谈采购事宜时，一定要从抛光垫的选择标准出发去度量，耐磨性差的不能选，韧性低的要舍去！

     对于优秀厂家而言，它在生产过程中有严格的质量监督体系，也会进行把关。因此大家不妨多考虑业内知名度高的厂家进行合作，这样能确保抛光垫的品质。